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研磨平臺(tái)簡介

研磨平臺(tái)用途:量具的制造,、修理, 制件研磨,,高精度機(jī)械零件制作,,光學(xué)儀器的加工。

研磨平臺(tái)規(guī)格:100*200. 200*200. 250*250. 300*300. 400*400
研磨平臺(tái)特性:
1.操作簡單,,上砂快,,嵌砂量足,使用后仍十分容易上同類型砂,,經(jīng)過打磨后,光潔度顯著提高.
2.容易得到量塊所需的較高光潔度和研合性,工件鏡面青亮.
3.平板耐用,切削足而持久,輕度導(dǎo)砂后仍有良好的切削性,推研時(shí)感覺流暢.


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